植物学报 ›› 2010, Vol. 45 ›› Issue (06): 744-750.DOI: 10.3969/j.issn.1674-3466.2010.06.012
黄宁珍*, 付传明, 赵志国, 唐凤鸾, 石云平
Ningzhen Huang*, Chuanming Fu, Zhiguo Zhao, Fengluan Tang, Yunping Shi
摘要: 对抗结核植物桂林小花苣苔(Chiritopsis repanda var. guilinensis)进行离体培养与快速繁殖技术研究。结果表明: 桂林小花苣苔叶片外植体的最适初代诱导培养基为MS+0.5 mg·L–16-BA+0.05 mg·L–1IBA, pH8.0; 最适继代增殖培养基为 MS+0.1 mg·L–16-BA+0.05 mg·L–1IBA, pH6.0, 繁殖系数7.0/35天; 最适生根培养基为1/2MS+0.2 mg·L–1NAA, pH6.0, 生根率为93.6%。模拟桂林小花苣苔自然生境, 在春季对生根试管苗进行大棚移栽, 成活率达90%。根据上述快繁技术, 理论上每株试管苗每年可繁殖桂林小花苣苔种苗46万株。