植物学报 ›› 2010, Vol. 45 ›› Issue (02): 198-204.DOI: 10.3969/j.issn.1674-3466.2010.02.008
付言钊1, 2; 杨仁秀2; 王桂萍2; 王春春2; 牛立元2; 沈振国2*
Yanzhao Fu1, 2;Renxiu Yang2;Guiping Wang2;Chunchun Wang2;Liyuan Niu2; Zhenguo Shen2*
摘要: 采用在根内生成有色铜沉淀的方法研究大豆(Glycine max)初生根凯氏带对铜离子的通透性。用真空泵抽取浓度为200 μmol·L–1 的CuSO4溶液进入根中, 然后在重力作用下从根基部灌注400 μmol·L–1的K4[Fe(CN)6]溶液, 两种物质在根内相遇即可产生棕色的Cu2[Fe(CN)6]沉淀, 根据沉淀的位置来确定铜离子所经过的途径。结果表明: Cu2+可以穿过内皮层凯氏带, 在木质部导管壁以及凯氏带至木质部之间的细胞壁处产生棕色沉淀, 侧根发生的部位也产生了大量的沉淀; 当抽取K4[Fe(CN)6]溶液后再灌注CuSO4溶液, 发现Cu2+仍然可以穿过凯氏带, 并在凯氏带外侧以及外皮层细胞的细胞壁处产生棕色沉淀。研究结果证明凯氏带并不是一个可以完全阻止离子进出的完美屏障。